W4型全譜直讀光譜儀

產(chǎn)品分類(lèi)：全譜直讀光譜儀

產(chǎn)品簡(jiǎn)介：W4型全譜直讀光譜儀擁有多項技術(shù)，可快速的對金屬材料樣品進(jìn)行元素測定。光學(xué)系統采用CMOS檢測器，光譜范圍覆蓋全部典型材料

訂購熱線(xiàn)：400-136-9009

產(chǎn)品詳情

一、儀器主要用途

二、儀器技術(shù)原理和參數

1、儀器工作原理

原子或離子可處于不連續的能量狀態(tài)，該狀態(tài)可以用光譜項來(lái)描述；當處于基態(tài)的原子或離子吸收了一定的外界能量時(shí)，其核外電子就從基態(tài)躍遷到激發(fā)態(tài)，而處于激發(fā)態(tài)的原子或離子很不穩定，經(jīng)由約秒便躍遷返回基態(tài)，并將激發(fā)所吸收的能量以光的形式放出，將這些光按一定的波長(cháng)順序排列即為原子光譜；由于特定元素可產(chǎn)生一系列不同波長(cháng)的光，通過(guò)識別待測元素的特征光譜存在與否即可進(jìn)行定性分析，根據該波長(cháng)光的強度進(jìn)行定量分析。

激發(fā)臺中的電極與預先制備好的金屬樣本之間在激發(fā)過(guò)程中產(chǎn)生電火花?；鸹òl(fā)出的光通過(guò)入射狹縫進(jìn)入光室，通過(guò)光柵分光后，不同波長(cháng)的光以不同的角度分開(kāi)，照射到CMOS傳感器上。傳感器將光信號轉化成為電信號，并通過(guò)測量系統傳輸給計算機，經(jīng)處理后，得出分析結果。

2、主要技術(shù)參數

項目	指標
檢測基體	鐵基、銅基、鋁基、鎳基、鈷基、鎂基、鈦基、鋅基、鉛基、錫基、銀基、錳基、鉻基等13個(gè)基體
光學(xué)系統	帕型-龍格羅蘭圓全譜真空型光學(xué)系統
波長(cháng)范圍	165-589nm（可安裝上下限檢測器擴大波長(cháng)范圍）
探測器	高分辯率多CMOS圖像傳感器
光源類(lèi)型	DDD數字激發(fā)光源，高能預燃技術(shù)（HEPS）
放電頻率	100-1000Hz
放電電流	zui大400A
檢測時(shí)間	依據樣品類(lèi)型而定，一般在25s左右
電極類(lèi)型	鎢材噴射電極
分析間隙	樣品臺分析間隙:3.4mm
真空系統	真空軟件自動(dòng)控制、監測
氬氣純度	99.999%
氬氣壓力	0.5MPa
工作電源	AC220V 50/60Hz
儀器尺寸	750560350mm
儀器重量	約70kg

五、儀器技術(shù)特點(diǎn)

W4型全譜直讀光譜儀擁有多項技術(shù)，可快速的對金屬材料樣品進(jìn)行元素測定。光學(xué)系統采用CMOS檢測器，光譜范圍覆蓋全部典型材料。無(wú)論從低含量元素還是到高含量的元素，它都能準確、可靠的分析。，針對不同材料、不同要求，具有性?xún)r(jià)比高的全譜直讀光譜儀，可滿(mǎn)足金屬制造業(yè)、加工業(yè)及金屬冶煉用于質(zhì)量監控、材料牌號識別、材料研究和開(kāi)發(fā)的應用。

1、性能優(yōu)越的光學(xué)系統

帕邢-龍格結構凹面光柵，全譜覆蓋，滿(mǎn)足客戶(hù)對全元素檢測的需求。

直射式光學(xué)技術(shù)及采用MgF材料制作的光學(xué)器件，保證紫外區域的zui佳性能。

高分辯率多CMOS讀出系統，更低的暗電流，更好的檢出限，更高的穩定性，更強的靈敏度，滿(mǎn)足N的分析要求。

2、大能量的數字激發(fā)光源

全數字化智能復合光源DDD技術(shù)，帶來(lái)優(yōu)越分析性能。

緊湊的設計及半導體控制技術(shù)，使得光源具有更好的穩定性、更強的可靠性。

高能預燃技術(shù)（HEPS),激發(fā)參數調整，充分滿(mǎn)足不同基體、不同樣品以及不同分析元素的激發(fā)要求。

3、人性化的樣品激發(fā)臺設計

激發(fā)臺直接將激發(fā)光導入光學(xué)系統

開(kāi)放式樣品臺，滿(mǎn)足大樣品測試要求。

變換電極可對小樣品及復雜幾何形狀樣品分析有更好的性能