直讀光譜儀器三個(gè)時(shí)間的預置是哪三個(gè)時(shí)間
通常情況下分析一般都要做沖洗時(shí)間、預燃時(shí)間、曝光時(shí)間的條件實(shí)驗來(lái)確定各自的時(shí)間。對于采用描跡法作出各元素的沖洗、預燃、曝光曲線(xiàn)，要綜合兼顧每個(gè)元素達到光強穩定的時(shí)間，以確定共同的沖洗、預燃、曝光時(shí)間。
1. 沖洗時(shí)間
激發(fā)樣品前，火花室須預先用高純氬沖洗，否則激發(fā)效果不好且結果不穩定，這一段時(shí)間稱(chēng)為沖洗時(shí)間。沖洗時(shí)間一般由沖洗曲線(xiàn)決定。
2. 預燃時(shí)間
試樣中各成分在光源作用下，物質(zhì)由固態(tài)到氣態(tài)原子或離子，要經(jīng)歷一系列復雜的過(guò)程。發(fā)光過(guò)程中，光強度需經(jīng)一段時(shí)間后才能趨于穩定。在定量分析時(shí)，必須等分析元素的譜線(xiàn)強度穩定以后才能曝光分析，以保證分析結果的精密度和準確度。從光源接通激發(fā)到開(kāi)始曝光，這一段時(shí)間稱(chēng)為預燃時(shí)間。
不同材料、不同元素的預燃時(shí)間是不一樣的，中低合金鋼的預燃時(shí)間可選4～6s，高合金鋼的預燃時(shí)間可選5～8s，易切削鋼的預燃時(shí)間可選10～30s，鋁合金的預燃時(shí)間可選3～10s。但必須指出預燃時(shí)間的長(cháng)短與光源性能有關(guān)，能量大的，預燃時(shí)間就會(huì )短些。
3. 曝光時(shí)間
曝光就是樣品曝光分析時(shí)間。曝光時(shí)間的確定，主要取決于激發(fā)樣品中元素分析再現性的好壞，曝光過(guò)程是光電流向積分電容中充電（也稱(chēng)積分）的過(guò)程。積分的結果可認為是取光電流的平均值，所以積分時(shí)問(wèn)不要過(guò)短。為了保證分析精度，火花放電的總次數應在2000～3000次，使鐵與分析元素的光強值和比值比較適中。正常分析時(shí)，曝光時(shí)間一般采用3～5s。但必須指出，曝光時(shí)間長(cháng)短與光源的能量大小有關(guān)。
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